שאלות נפוצות

מאפיינים ויכולות של תנור דיפוזיה אופקי

מהו תנור דיפוזיה אופקי (Horizontal Diffusion Furnace) שמציעה פיקוטק?

תנור דיפוזיה אופקי של פיקוטק, מתוצרת SVCS, מיועד לסביבה תעשייתית מתקדמת ומספק ביצועים גבוהים, יעילות וחסכוניות. הוא מאפשר מגוון תהליכים תרמיים ואוטומציה מלאה לטעינת פרוסות.

אילו תהליכים ניתן לבצע בתנור דיפוזיה אופקי?

בתנור דיפוזיה אופקי ניתן לבצע תהליכים אטמוספריים (דיפוזיה, דופינג, אנילינג, סינטור, חמצון רטוב/יבש, HiPOx), תהליכי LPCVD (סיליקון ניטריד, LTO, HTO, TEOS, פוליסיליקון, אוקסיניטריד), ותהליכי PECVD (סיליקון ניטריד, סיליקון אוקסיד, אוקסיניטריד).

מהם היתרונות המרכזיים של תנור דיפוזיה אופקי?

התנור מציע עיצוב מכני נוח לתחזוקה, מערכת בקרה מודולרית מתקדמת, מסך מגע ברזולוציה גבוהה, עד 4 תאי ריאקטור קוורץ/SiC, אוטומציה מלאה לטעינת פרוסות, מערכת שליטה עצמאית לכל תא, מנגנוני בטיחות, פילטרים HEPA/ULPA, אוטומציה לטעינת פרוסות, חיבורים UHP, ריתוכים נקיים, ועוד.

מהו מפרט טכני של תנור דיפוזיה אופקי?

מידות: 5600x2600x1000 מ"מ; גודל פרוסות: 150, 200, 300 מ"מ או מותאם אישית; כמות טעינה: 100+ פרוסות; מערכת חימום: 3 או 5 אזורים; אזור שטוח: עד 1067 מ"מ; טמפרטורת תהליך: 200°C–1300°C (דיוק ±0.5°C); צריכת חשמל: 18–30kW לכל תא.

האם קיימת אוטומציה מלאה לטעינת פרוסות בתנור?

כן, קיימת מערכת אוטומטית להעברת פרוסות מקסטה לסירה, כולל מעלית סירות, רובוט טעינה, סטוקר מובנה, ואפשרות לטעינה רציפה ואוטומטית של פרוסות.

אילו סוגי פרוסות ניתן לעבד בתנור דיפוזיה אופקי?

ניתן לעבד פרוסות בגודל 150, 200, 300 מ"מ, וכן גדלים מותאמים אישית לפי דרישות הלקוח.

מהם סוגי תאי הריאקטור בתנור?

בתנור ניתן לשלב עד 4 תאי ריאקטור קוורץ או SiC, ללא הפרעה תרמית בין התאים.

האם קיימים מנגנוני בטיחות בתנור?

כן, קיימים מנגנוני בטיחות חומרה עצמאיים שאינם תלויים במעבד הראשי, וכן פילטרים HEPA/ULPA בתחנת הטעינה.

מהם סוגי תהליכי הדופינג הנתמכים?

התנור תומך בדופינג ממקורות מוצקים, נוזליים וגזיים כגון BBr3, B2H6, POCL3, PH3, BN.

האם ניתן לבצע חמצון רטוב ויבש בתנור?

כן, התנור מאפשר חמצון רטוב עם מערכת חיצונית לשריפה או עם סטימר אולטרה-טהור, וכן חמצון יבש.

האם קיימת אפשרות לשימוש ב-DCE או HCl בכל התהליכים?

כן, קיימת אפשרות לשימוש ב-DCE או HCl בכל התהליכים בתנור.

מהו טווח הטמפרטורות בתנור?

טווח הטמפרטורות בתנור הוא 200°C עד 1300°C, עם דיוק של ±0.5°C באזור השטוח.

מהי צריכת החשמל של תנור דיפוזיה אופקי?

צריכת החשמל היא 18kW–30kW לכל תא ריאקטור.

האם קיימת מערכת שליטה עצמאית לכל תא?

כן, לכל תא בתנור קיימת מערכת שליטה עצמאית, המאפשרת גמישות בתהליכים.

מהם סוגי החיבורים והרתוכים בתנור?

בתנור קיימים חיבורים UHP עם ריתוכים אורביטליים, המבוצעים בחדר נקי 100/10.

האם קיימת מערכת טעינה אוטומטית עם סטוקר מובנה?

כן, מערכת הסטוקר כוללת רובוט טעינה, מעלית סירות, ומאפשרת טעינה רציפה ואוטומטית של פרוסות.

מהו גודל הטעינה הטיפוסי של מעלית הסירות?

במעלית סירות טיפוסית יש 5 סירות עם 50 חריצים כל אחת (לפרוסות 200 מ"מ) או 6 סירות (לפרוסות 150 מ"מ).

האם ניתן לשלב סטוקר בתנור?

כן, הסטוקר משולב בתנור ומאפשר אחסון קסטות טעונות ופרוסות לפריקה, לתפעול רציף ואוטומטי.

האם התנור מתאים לייצור סדרתי?

כן, התנור תוכנן לסביבה תעשייתית מתקדמת ומותאם לייצור סדרתי בהיקפים גדולים.

קטגוריות ציוד ופתרונות נוספים של פיקוטק

אילו קטגוריות ציוד לעיבוד תרמי פיקוטק מציעה?

פיקוטק מציעה ציוד RTP (Rapid Thermal Processing), תנורי Reflow, ותנורי דיפוזיה ו-LPCVD, כולל תנורי דיפוזיה אופקיים, תנורי דיפוזיה שולחניים קומפקטיים, ותנורי דיפוזיה עם צינור אנכי. לפרטים נוספים: עמוד ציוד לעיבוד תרמי.

אילו פתרונות קיימים בתחום שיקוע שכבות דקות (Thin Film Deposition)?

פיקוטק מציעה פתרונות לשיקוע שכבות דקות כגון PVD ידני למחקר ופיתוח, PVD חצי-אוטומטי, PVD מתקדם, מנהרת העברה לינארית UHV, פתרונות Cluster, איכול ושיקוע באמצעות קרן יונים, שיקוע פחמן דמוי יהלום (DLC), מטאליזציה של סיבים אופטיים, שיקוע בליטות אינדיום, שיקוע שכבות אטומיות (ALD) תרמי ומבוסס פלזמה, ועוד. לפרטים: עמוד שיקוע שכבות דקות.

אילו פתרונות קיימים בתחום עיבוד רטוב (Wet Processing)?

פיקוטק מספקת כלים לעיבוד רטוב כגון Wet Etch, Lift-Off, Electroplating, ניקוי מסכות, SRD, Spray Acid, Spray Solvent Tools, העברת פרוסות, מיון ומניפולציה, ו-Gloveboxes מותאמים אישית. לפרטים: עמוד עיבוד רטוב.

אילו פתרונות קיימים בתחום ציוד פלזמה?

פיקוטק מציעה ציוד פלזמה לניקוי והפעלת פלזמה (אטמוספרי, ואקום), איכול יבש בפלזמה (RIE, ICP, Deep Silicon Etch, Mask Etch, IBE), Plasma PECVD, Low-Temp HDPECVD, Large Area PECVD. לפרטים: עמוד ציוד פלזמה.

אילו פתרונות קיימים בתחום אריזה מתקדמת?

פיקוטק מספקת ציוד לחיתוך, השחזה, דיקוק, ליטוש, CMP, ניקוי לאחר CMP, Die bonding, Flip Chip, Wire Bonding, Pull and Shear Testers, סינטור ויציקה. לפרטים: עמוד אריזה מתקדמת.

אילו פתרונות קיימים בתחום ציוד אנליטי?

פיקוטק מציעה תחנות בדיקה, SEM, FIB-SEM, Micro-CT, אביזרים, אליפסומטריה, מטרולוגיה (CV/IV, התנגדות, אורך חיים/ניידות), SAM, AFM, Nanoindentation, Pull and Shear Testers, ויברומטרים לייזר דופלר, ניתוח כשלים. לפרטים: עמוד ציוד אנליטי.

קהלי יעד, שימושים ותעשיות

מי קהל היעד של תנור דיפוזיה אופקי?

קהל היעד כולל מהנדסים, חוקרים, מדענים ומנהלים טכניים בתעשיות הסמיקונדקטור, MEMS, ייצור PCB, מדעי החומרים, מדעי החיים, ומכוני מחקר ופיתוח.

אילו תעשיות משתמשות בתנור דיפוזיה אופקי?

התנור נמצא בשימוש בתעשיות הסמיקונדקטור, MEMS, PCB, מדעי החומרים, מדעי החיים, ננוטכנולוגיה, אנרגיה, אוטומוטיב, גיאולוגיה, נפט וגז, ומכוני מחקר.

אילו בעיות נפוצות התנור פותר?

התנור פותר בעיות של דיוק בתהליכים תרמיים, אוטומציה לטעינת פרוסות, גמישות בתהליכים, הפחתת תקלות, שיפור איכות המוצר, והגברת יעילות הייצור.

מה ההשפעה העסקית של שימוש בתנור דיפוזיה אופקי?

שימוש בתנור משפר את איכות המוצר, מפחית תקלות, מייעל את תהליך הייצור, מאפשר התאמה לייצור סדרתי ומחקר, ומקצר את זמן הפיתוח.

האם פיקוטק עובדת עם מוסדות אקדמיים?

כן, פיקוטק משתפת פעולה עם כל האוניברסיטאות ומכוני המחקר בישראל ומספקת ציוד וטכנולוגיות למחקר ופיתוח. לפרטים: עמוד לקוחות.

אילו חברות תעשייתיות משתמשות בפתרונות פיקוטק?

כמעט כל יצרני התעשייה בישראל משתמשים בפתרונות פיקוטק, כולל חברות מובילות בתחום הסמיקונדקטור, ננוטכנולוגיה, מדעי החומרים, ועוד. לפרטים: עמוד לקוחות.

האם פיקוטק מספקת פתרונות גם לתחום האנרגיה?

כן, פיקוטק מספקת ציוד למחקר ופיתוח בתחום האנרגיה, כולל אנרגיה סולארית וסוללות.

האם פיקוטק מספקת פתרונות לתחום האוטומוטיב?

כן, פיקוטק מספקת ציוד פלזמה וכלים אנליטיים לתעשיית הרכב.

האם פיקוטק מספקת פתרונות לתחום הנפט והגז?

כן, פיקוטק מספקת כלים אנליטיים לניתוח חומרים ומבנים בתחום הנפט והגז.

תמיכה, יישום ושירות

האם פיקוטק מספקת תמיכה טכנית והטמעה?

פיקוטק מספקת תמיכה טכנית מלאה והטמעה מקצועית לכל המוצרים והמערכות, כולל תנור דיפוזיה אופקי.

כיצד ניתן ליצור קשר עם פיקוטק לקבלת מידע נוסף?

ניתן ליצור קשר דרך עמוד יצירת קשר באתר פיקוטק או בטלפון ובדוא"ל המופיעים באתר.

Horizontal Diffusion Furnaces

PicoTech offers classic Horizontal diffusion furnaces by SVCS. SVCS Horizontal diffusion furnaces are Designed for High Performance Production Environment while staying Efficient and Economic.

 

A variety of processes are available in Horizontal diffusion furnaces:

 

Atmospheric Processes:

  • Diffusion (drive-in) high-temperature processes
  • Doping from solid, liquid and gaseous dopant sources: BBr3, B2H6, POCL3, PH3, BN
  • Various thermal processing: Annealing, Sintering
  • Pyrogenic Wet Oxide with External Burning System
  • Wet Oxide with ultra-pure steamer
  • Dry Oxide
  • HiPOx (High Pressure Oxide)

 

LPCVD Processes:

  • Silicon nitride
  • Low-temperature oxide (LTO)
  • High-temperature oxide (HTO)
  • TEOS oxide
  • Polysilicon, with tilt/flat temperature profile
  • Doped polysilicon
  • Oxynitride

 

PECVD Processes:

  • Silicon nitride (incl. anti-reflective SiN solar cell coating)
  • Silicon oxide
  • Oxinitride

 

DCE or HCl optional for all processes